產(chǎn)品特點 | 可與準分子激光器配合進行PLD制膜 腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材,進行多靶激光蒸發(fā) 腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn) 可對基片加熱(最高溫度可達1200℃) |
加熱爐(對基片加熱 | 雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風冷系統(tǒng),使殼體表面溫度小于60℃ 加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金(表面涂有氧化鋯涂層) 最高工作溫度:1200℃ 最大功率:1.2KW |
腔體 | 基片加熱腔體為高純石英材料 靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料 靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材,并且靶材可旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速:0-30rmp) 兩個腔體通過卡箍式法蘭連接(可點擊圖片查看詳細資料)
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真空系統(tǒng)(選配) | 10-2Torr(采用機械泵) 10-5Torr(采用渦旋分子泵) 可在本公司購買各種真空泵 |
窗口 | 采用藍寶石(Al2O3) 尺寸:Φ25*0.5mm 允許激光的入射角度為30°-90°
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壓力控制系統(tǒng) | 一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上,可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定 與混氣系統(tǒng)配合使用,可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定
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混氣系統(tǒng) | 配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng) 混氣罐尺寸:Φ80X120mm 最大氣壓:3×106Pa 精度:±1%FS 質(zhì)量流量計量程:1:1-199sccm 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計 可選購3-5路混氣系統(tǒng) |
等離子射頻電源(可選購) | 可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源,使腔體內(nèi)的氣體等離子化,達到等離子化激光蒸發(fā)反應鍍膜
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質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終生維護(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件) |
儀器尺寸 | 1300mm*1260mm*820mm |
質(zhì)量認證 | 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證
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