| 設(shè)備名稱(chēng) | 1700℃小型精確控溫蒸發(fā)鍍膜儀--GSL-1700X-SPC-2 （2019.11.25—科晶實(shí)驗(yàn)室審核） |
|||
| 相關(guān)視頻 |
|
|||
| 產(chǎn)品提示 | 1.科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span> 2.圖片未及時(shí)更新提示 3.多種配件可選提示 |
|||
| 主要特點(diǎn) | ·直徑6英寸的石英腔體，便于清潔和放入樣品。 ·安裝有一個(gè)2英寸的樣品臺(tái)，并且樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，使所制薄膜更加均勻。 ·樣品臺(tái)和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié) ·氣體流量端口和閥門(mén)內(nèi)置可用于腔室凈化和CVD實(shí)驗(yàn)。 ·采用鎢絲加熱
|
|||
| 基本參數(shù) | ·控溫方式：手動(dòng)控溫/程序控溫 ·控溫精度：+/-1℃ ·腔體真空度：5*10^-3Pa（表壓只能顯示到 1*10^-1Pa） ·樣品室：石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm H ·基片：可裝載基片最大尺寸為 50mm ·輸出電壓：DC 18V ·最大輸出電流：≤30A 正常蒸發(fā)電流：≤25A ·輸入電源：AC 220V 50HZ/60HZ ·輸入功率：1.76KW（不含真空系統(tǒng)） ·最高使用溫度：≤1500℃ 更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷(xiāo)售部 |
|||
| 溫控及加熱源 | ·采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專(zhuān)用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測(cè)量和控制。（圖1） ·采用S型熱電偶（工作溫度為200℃-1500℃）（圖2） ·可選B型熱電偶（工作溫度為1200℃-1700℃） ·安裝有一個(gè)數(shù)顯的溫度控制器：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC（圖3） ·溫度控制器的時(shí)間設(shè)置以秒為單位，建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s（20oC/ min），在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s（10oC/min） ·儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝（圖4、圖5）
圖1 圖2 圖3 圖4 圖5 |
|||
| 進(jìn)氣口 | ·進(jìn)氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對(duì)腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜 ·進(jìn)氣口安裝有一針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量 |
|||
| 皮拉尼真空計(jì) | · 安裝位置：室內(nèi)或空曠的露天樓宇及工作室； · 溫度：5-60℃； · 濕度：30℃環(huán)境下≤80% 40℃環(huán)境下≤50%無(wú)冷凝氣體； · 環(huán)境大氣壓：860-1060mbar。 |
|||
| 真空泵（選配) | · 型號(hào)：VRD-8 · 電源 AC 220V 50/60 Hz · 功率：400W · 進(jìn)排氣連接口：KF25 · 抽氣速率：8 m3/h
|
|||
| 尺寸 | 540*400*710mm（長(zhǎng)*寬*高）
|
|||
| 重量 | 40 kg |
|||
| 認(rèn)證 | ·此產(chǎn)品已通過(guò)CE認(rèn)證 證書(shū)編號(hào)：M.2021.206.C67994 ·若客戶(hù)出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過(guò)德國(guó)TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
|
|||
| 質(zhì)保 | 一年質(zhì)保期，終生維護(hù) 特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
使用GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si片上蒸鍍Cu，探索設(shè)備蒸鍍膜厚最大及最小值。
實(shí)驗(yàn)過(guò)程：
圖1設(shè)備 圖2蒸發(fā)料
原料：銅段（蒸發(fā)料，銅導(dǎo)線內(nèi)芯），Si基底（酒精超聲清洗30min，后使用去離子水超聲清洗30min，真空烘箱70℃烘干）。使用分子泵抽真空，待真空度到達(dá)100時(shí)，利用氮?dú)鈱?duì)腔室進(jìn)行洗氣三至四次。洗氣結(jié)束，待分子泵抽真空至10-4Torr，開(kāi)始給爐子加熱，升溫曲線0.6℃/s，升溫至相應(yīng)溫度，玻璃罩出現(xiàn)金屬色后打開(kāi)擋板蒸鍍。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：
目的 | 組別 | 蒸鍍條件 （溫度、時(shí)間） | 鍍膜前 | 鍍膜后 | 膜厚 |
最薄 | 1 | 1250℃、10s |
|
| |
2 | 1200℃、10s |
|
|
| |
3 | 1200℃、3s |
|
|
| |
最厚 | 4 | 1200℃、60min |
|
|
|
5 | 1200℃、30min |
|
|
|
結(jié)論：
1、GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si基底上鍍Cu，最?。ず駜x可檢測(cè)）可蒸鍍至14.8nm
2、GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si基底上鍍Cu，最厚（起皮前）可蒸鍍至37.72μm
特別聲明：
1. 以上所有實(shí)驗(yàn)僅為初步探究，僅供參考。由于我們水平有限，錯(cuò)誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。
2. 歡迎您提出其他實(shí)驗(yàn)思路，我們來(lái)驗(yàn)證。
3. 以上實(shí)驗(yàn)案例及數(shù)據(jù)只針對(duì)科晶設(shè)備，不具有普遍性。
4. 因?yàn)樯婕氨Ｃ軉?wèn)題，以上數(shù)據(jù)僅為部分?jǐn)?shù)據(jù)，歡迎老師與我們聯(lián)系，我們非常期待和您共同探討設(shè)備的應(yīng)用技術(shù)。
應(yīng)用提示 | ·使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗。 ·抽真空時(shí)，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預(yù)加熱到500℃，保持2小時(shí)。 ·如誤將控溫儀表設(shè)為手動(dòng)狀態(tài)，程序?qū)⒉荒苷＿\(yùn)行。 ·如果用戶(hù)選配了STC-2型薄膜測(cè)厚儀，在選用取樣片時(shí)請(qǐng)按：鍍純金屬時(shí)用金取樣片，鍍合金時(shí)用銀取樣片。 ·鎢絲藍(lán)必須在真空狀態(tài)下（＜5Pa）才能通電加熱，否則會(huì)被氧化。 ·蒸鍍儀標(biāo)配熱電偶型號(hào)為“S”型熱電偶,如需加熱到 1500℃以上，則需更換“B”型熱電偶。 ·當(dāng)所需要蒸鍍的物料會(huì)與氧化鋁坩堝產(chǎn)生反應(yīng)，則需將氧化鋁坩堝換成氧化鋁通孔坩堝。然后在通孔坩堝上再放上一個(gè)不銹鋼異形坩堝（注意：加熱不銹鋼坩堝時(shí)，溫度不能超過(guò)1100℃）。用戶(hù)可額外選購(gòu)鎢絲籃及氧化鋁坩堝。（圖1、2） 圖1 圖2 |
警示 | ·蒸鍍儀在工作中嚴(yán)禁旋開(kāi)試樣室充氣閥充氣、關(guān)閉真空泵。 ·蒸鍍電流不宜大于 20A。 ·蒸鍍儀一般工作溫度不得超過(guò) 1500℃（長(zhǎng)時(shí)間工作溫度），最高溫度 1600℃ （工作時(shí)間不超過(guò) 30 分鐘）。 ·此設(shè)備儀表程序時(shí)間為秒，200℃之前升溫速度不宜大于 0.5 度/秒。 |
相關(guān)可選 | ·可選用真空系統(tǒng)配套使用：分子泵真空度可達(dá) 10E-4 torr。(圖1) ·如果使用腐蝕性氣體，請(qǐng)使用冷阱或防腐干泵。(圖2) ·可選購(gòu)一數(shù)顯防腐真空計(jì)，測(cè)量范圍為：3.8x10^-5-1125Torr。(圖3) ·可在本公司選購(gòu)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?。（圖4、5）同時(shí)可選購(gòu)反射光譜薄膜測(cè)厚儀--TFMS-LD（圖6） ·此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作，用于蒸鍍一些在常溫下對(duì)氧氣敏感的材料，比如金屬Li等，可在本公司選購(gòu)開(kāi)啟式手套箱VGB-6。（圖7） 圖1 圖2 圖3 圖4
圖5 圖6 圖7 |
![23453[1].png](/UserFiles/upload/image/20220322/6378354028279308127470558.png "23453[1].png")
合肥科晶品牌紀(jì)錄片 公司環(huán)境
Copyright © 2019 合肥科晶材料技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 皖I(lǐng)CP備09007391號(hào)-1 
皖公網(wǎng)安備 34012302000974號(hào)
查看誠(chéng)信檔案
