| 參考文獻(xiàn) | ·注：請(qǐng)參閱 Ceder 教授團(tuán)隊(duì)使用該設(shè)備發(fā)表的優(yōu)秀文章：An autonomous laboratory for the accelerated synthesis of novel materials |
| 爐體結(jié)構(gòu) | ·雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐體開啟式設(shè)計(jì) ·采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，達(dá)到高的加熱效率 ·加熱區(qū)長(zhǎng)度300mm,恒溫區(qū)長(zhǎng)度100mm(±5℃） ·最高溫度：1200℃≤1小時(shí)，長(zhǎng)期工作1100℃ ·爐管尺寸：外徑130mm×內(nèi)徑120mm×長(zhǎng)度750mm ·安裝有氣壓傳感器，可自動(dòng)控制爐管內(nèi)的氣壓 ·設(shè)備中安裝有一個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，可自動(dòng)調(diào)節(jié)通入爐管中的氣流量 ·設(shè)備中標(biāo)配一臺(tái)筆記本電腦，用于自動(dòng)化操作
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| 密封法蘭 | ·130mm水冷法蘭，帶有硅膠密封圈，法蘭上安裝有閥門 ·設(shè)備中配有一個(gè)循環(huán)水冷機(jī)（圖1） ·右法蘭安裝在移動(dòng)滑軌上，通過電機(jī)&壓縮氣體驅(qū)動(dòng)法蘭打開和關(guān)閉 ·設(shè)備中配有一個(gè)空壓機(jī)（圖2） ·一個(gè)數(shù)字壓力傳感器安裝在設(shè)備上，可自動(dòng)控制爐管內(nèi)氣壓，控制范圍1Pa~200KPa ·最高真空度10-4Torr （采用分子泵系統(tǒng)） ·設(shè)備中配有一臺(tái)機(jī)械泵，真空度可達(dá)10Pa（圖3）
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| 樣品架 | ·~100×100mm石英樣品架 ·樣品架安裝在右端滑動(dòng)法蘭上 ·樣品架上可放置4個(gè)坩堝，配有8個(gè)氧化鋁坩堝（尺寸Φ40×40mm） ·可按照客戶要求定制樣品架和坩堝
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| 控制面板&軟件 | ·觸摸屏控制面板，可設(shè)置各種參數(shù)： ·爐管內(nèi)的氣壓（1-200KPa） ·進(jìn)氣流速（0-2000ml/min） ·爐管內(nèi)氣體清洗（0-3次） · 溫度程序（加熱速率，保溫時(shí)間和冷卻速率），最多可達(dá)30段 ·密封法蘭開/關(guān) ·RJ45通訊接口安裝在控制面板上可用于連接PC或無線路由獲得遠(yuǎn)程控制 ·包含有PC操作元件，可同時(shí)控制8臺(tái)設(shè)備 ·通訊密碼對(duì)用戶開放，可對(duì)接機(jī)器人，達(dá)到無人操作
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| 可選 | ·全自動(dòng)化操作：通過一個(gè)機(jī)械手臂，達(dá)到自動(dòng)裝樣和取樣（圖1） ·增加自動(dòng)化供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化CVD系統(tǒng)（圖2） ·自動(dòng)化管式爐可以配合自動(dòng)配料機(jī)，自動(dòng)混料和自動(dòng)壓料設(shè)備達(dá)到全自動(dòng)化燒結(jié)過程（圖3）
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| 安裝要求 | ·電壓 220VAC +/- 10%, 3KW, ( 20A 空氣開關(guān) ) 單相, ·> 0.8MPa空壓機(jī) ·> 16 ml/min 循環(huán)水冷機(jī)
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| 警告 | 爐蓋比較重，打開時(shí)要小心，避免爐膛翻到 |
| 質(zhì)保 | 一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包含損耗品，如爐管，密封圈和熱電偶等） |
| 尺寸和重量 |
·尺寸: 780mm(L) x 770mm(W) x 820mm(H) ·重量:: ~ 160 Kg |
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